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产品名称： 硅片烧结回转窑 气氛回转炉
一、概述
硅片烧结回转炉主要用于CVD实验，也运用于冶金，玻璃，热处理，锂电正负极材料，新能源，磨具等行业测定材料在一定气氛条件下的专业设备。旋转管式炉和传统的马弗炉相比，它的*大优点在于炉管是转动的，物样在加工过程中，不停地翻动。因此加工质量好，效率高，并且取得的实验数据较接近于生产状态。由于可以连续出料，所以加工大量物样时，更能显示其优越性。另外旋转回转窑炉管的两端采取了密封措施，所以在使用过程中还可通入氧化，还原等必要的气氛。
二、型号规格
| 设备型号 | 炉膛尺寸（mm) | 温度(℃） | 额定功率（KW) | 电压（V) |
| BLXG系列 | φ120*2000-2500 | 1100-1600 | 8-16 | 380 |
| BLXG系列 | φ160*2500-3000 | 1100-1600 | 12-30 | 380 |
| BLXG系列 | φ220*2500-4000 | 1100-1600 | 15-40 | 380 |
| BLXG系列 | φ270*2500-5000 | 1100-1600 | 20-50 | 380 |
| BLXG系列 | φ320*2500-6000 | 1100-1600 | 30-60 | 380 |
| BLXG系列 | φ370*3000-7000 | 1100 | 30-70 | 380 |
| BLXG系列 | φ400*3000-8000 | 1100 | 40-80 | 380 |
| BLXG系列 | φ450*4000-9000 | 1100 | 50-100 | 380 |
注：回转窑炉可根据用户要求另行设计制造，价格非标准
